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Canon Anelva二手物理氣相沉積PVD設備FC7100

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具體成交價以合同協(xié)議為準

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更新時間：2023-02-25 12:50:47瀏覽次數(shù)：161次

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CanonAnelva二手物理氣相沉積PVD設備FC7100于2011年開始投入使用，適用于12英寸晶圓

Canon Anelva二手物理氣相沉積PVD設備FC7100于2011年開始投入使用，適用于12英寸晶圓。

特點：

能夠通過超高真空共濺射控制薄膜成分。

高精度控制（0.1nm單位）膜厚和優(yōu)異的均勻性（1σ<1%）。

兼容亞32nm節(jié)點或更小的鑲嵌柵形成工藝。

（使用 PCM-PVD 方法進行高覆蓋率沉積）。

通過使用緊湊型陰極降低材料成本。輕松更換材料。

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