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熱ALD設備 AL-1無針孔薄膜沉積設備

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更新時間:2023-02-24 16:43:11瀏覽次數:98次

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AL-1通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑,僅利用表面反應沉積薄膜,實現了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率

AL-1通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑,僅利用表面反應沉積薄膜,實現了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率。薄膜的厚度可以控制在原子層的數量級。此外,可以在高寬比的孔內壁上沉積覆蓋性好、厚度均勻的薄膜??赏瑫r沉積3片?4英寸的晶片。

熱ALD設備 AL-1無針孔薄膜沉積設備

主要特點和優(yōu)點

成膜效率高

通過提供幾十毫秒量級的脈沖,減少了原材料的損耗,提高了沉積效率。

真空清潔,溫度不均勻性小

通過緊貼反應室內壁的內壁加熱器,抑制反應室的溫度不均勻,可獲得清潔的真空。

無針孔成膜

由于多種前驅體在反應室中沒有混合,因此可以防止顆粒,形成無針孔的薄膜。

應用

用于下一代功率器件的柵極氧化膜和鈍化膜。

在3D結構上形成均勻的薄膜,如MEMS。

激光表面的沉積

碳納米管的鈍化膜

AL-1無針孔薄膜沉積設備內部圖

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