Load-lock式Plasma CVD設(shè)備CC-200/400是小型的使用便利的可對應(yīng)從研究開發(fā)到量產(chǎn)的設(shè)備。

產(chǎn)品特性：

?27.12MHz高密度等離子制程

?SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：可對應(yīng)SiO2膜

?以CF4+O2 Plasma實現(xiàn)腔體清潔功能

?可對應(yīng)有機EL（OLED）的低溫成膜用heater

?使用Tray可搬送多種基板尺寸

?通過使用真空Box實現(xiàn)C系列的間接連續(xù)制程（Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200）

產(chǎn)品應(yīng)用：

?功率器件

?LED、LD、高速device等化合物相關(guān)

?有機EL（OLED）開發(fā)

?太陽電池開發(fā)

?MEMS