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ASML浸沒式光刻機XT:1900i是XT：1700Fi的自然擴展，通過提供40nm的半間距分辨率，支持半導體行業(yè)所要求的設備縮小的持續(xù)驅(qū)動器

ASMLKRF光刻機PAS5500/800提供0.80數(shù)值孔徑(NA)

ASMLKrF光刻機PAS5500/850C248nm步進-掃描系統(tǒng)可實現(xiàn)110nm的批量生產(chǎn)

ASMlKrF光刻機PAS5500/850D248nm步進掃描系統(tǒng)支持110nm量產(chǎn)

PAS5500/8TFH-AKrF步進掃描系統(tǒng)是一種專用的光刻工具，用于在125毫米、150毫米和200mmAlTiC晶片上生產(chǎn)薄膜頭(TFH)

TWINSCANXT:1000H248nm步進掃描系統(tǒng)是一種新型雙級KrF光刻工具，具有業(yè)界的NA和生產(chǎn)率，設計用于200mm和300mm晶圓生產(chǎn)

ASMLTwinscanAT1250B是步進和掃描儀系統(tǒng)

XT:1250i是ASML發(fā)布的TWINSCANXT:1250的浸入式版本

隨著TWINSCANXT：1400Ei的發(fā)布，使用ArF浸入式光刻生產(chǎn)65nm體積現(xiàn)在成為現(xiàn)實

ASMLHoldingNV(ASML)于2006年末推出了其的TWINSCAN系統(tǒng)，這是一種*的193納米(nm)曝光系統(tǒng)，具有成像、覆蓋和吞吐量改進的特點

TWINSCANXT:1900GiStep-and-Scan系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級浸沒式光刻工具，專為45納米及以下分辨率的300毫米晶圓批量生產(chǎn)而設計

TWINSCANXT:400G365nm步進掃描系統(tǒng)是一種超高生產(chǎn)率的雙級光刻工具，專為350nm分辨率的300mm晶圓批量生產(chǎn)而設計

TWINSCANXT:450G365-nm步進式掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級光刻工具，設計用于批量生產(chǎn)分辨率低至220-nm及以上的關鍵i-line應用

尼康的這款i-line光刻機NSR2205i12D是歡迎的光刻系統(tǒng)之一

佳能二手i-line光刻機CANONFPA3000I4參數(shù)：Magnification5XResolution0

ASML二手KrF曝光機，光刻機現(xiàn)貨由青島佳鼎分析儀器有限公司提供，除此之外，我們的技術(shù)團隊還支隊對光刻機的技術(shù)改造和方案對接

Nikon分步投影光刻機NSR-S204B，用于集成電路生產(chǎn)過程中的微光刻工藝，通過投影成像方式，把掩模版上集成電路圖形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重復...

TWINSCANNXT:1970Ci步進掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級浸沒式光刻工具，專為在成熟節(jié)點批量生產(chǎn)300毫米晶圓而設計

這些i-line步進器具有與尼康DUV掃描儀相同的縮小率和視場大小，是曝光次臨界層的理想選擇，這些層大約占設備20層或更多層的一半