ASML KRF光刻機PAS5500/800提供0.80 數(shù)值孔徑 (NA)。該系統(tǒng)的分辨率為 120 納米，將用于批量生產(chǎn) 256 MB DRAM 和其他*的存儲設(shè)備。

“PAS 5500/800 將使這些的制造商能夠?qū)⑵鋵Τ墒?KrF 技術(shù)的投資擴展到新一代內(nèi)存產(chǎn)品，"ASML 銷售執(zhí)行副總裁 Dave Chavoustie 說。“通過展示我們擴展 PAS 5500 平臺和提供新工具的能力，我們的系統(tǒng)繼續(xù)提供非常高的生產(chǎn)力和低擁有成本。"

PAS 5500/800 于 2001 年 1 月發(fā)布，其吞吐量規(guī)格為每小時 115 200 毫米晶圓。該系統(tǒng)專為當今 IC 的大批量處理以及下一代邏輯、ASIC和*存儲設(shè)備的研發(fā)和試生產(chǎn)而設(shè)計。PAS 5500/800 將 Carl Zeiss StarLith800 0.8 NA、4X 縮小鏡頭的成像能力與 AERIAL II 照明技術(shù)相結(jié)合，可在關(guān)鍵尺寸和電路設(shè)計特征范圍內(nèi)優(yōu)化工藝范圍。該系統(tǒng)配備了 ASML的 ATHENA 晶圓對準系統(tǒng)和新開發(fā)的掩模版藍色對準，允許光化波長掩模版對準，使單機重疊精度低于20納米。新的液位傳感器提高了聚焦精度，以增強過程控制和產(chǎn)量，特別是對于邊緣模具?？蛻艨梢詮娜蟮?20 瓦 KrF 激光器供應(yīng)商中進行選擇。ASML 對激光源的實施包括可變激光頻率控制，結(jié)合通過照明和投影光學器件的高光傳輸，確保更高的生產(chǎn)率和更低的運營成本。