詳細(xì)摘要: 輝光放電分析(GDA)于1968年出現(xiàn),初用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學(xué)分析。 這種分析方法不斷地發(fā)展,尤其擅長(zhǎng)于表面和涂層分析。與傳統(tǒng)的激發(fā)技術(shù)相比,輝光放...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:更新時(shí)間:2025-07-02 在線留言粉碎設(shè)備 混合設(shè)備 分離設(shè)備 濃縮結(jié)晶設(shè)備 傳質(zhì)設(shè)備 干燥設(shè)備 反應(yīng)設(shè)備 換熱設(shè)備 制冷設(shè)備 空分設(shè)備 儲(chǔ)存設(shè)備 鍋爐|加熱設(shè)備 包裝機(jī)械 輸送設(shè)備 化工實(shí)驗(yàn)室設(shè)備