一、設備簡介

M6 Spin Coater可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片，使用無刷直流雙向旋轉(zhuǎn)馬達控制，轉(zhuǎn)速穩(wěn)定，控制器可拆卸配合手套箱使用，4.3寸全彩觸屏人機界面操作，簡單易用。M6 Spin Coater外形美觀，結(jié)構(gòu)緊湊，專為實驗室，研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)部門提供性價比高的勻膠涂覆設備。M6 Spin Coater在材料、化學或生物等實驗室被廣泛用于薄膜制備，納米薄膜研究等相關(guān)領(lǐng)域。

二、技術(shù)參數(shù)：

▲1.保護氣體裝置：旋涂過程中對旋轉(zhuǎn)馬達進行氣流保護（可選擇取消）；

2.支持Wafer尺寸：直徑10-150mm，方片125x125mm，無需更換片托（可選3mm，5mm托盤）;

3. 設備材質(zhì)：全部采用易清潔的NPP天然聚丙烯材質(zhì)，環(huán)保，抗震，耐腐蝕；

▲4.無刷馬達：直流雙向旋轉(zhuǎn)，正反旋轉(zhuǎn)速度0~±12000rpm，穩(wěn)定性能誤差±1rpm；

5.馬達安全模式：可設置非真空模式，轉(zhuǎn)速3000rpm，加速度500rpm/s；

6.加速度：65535rpm/S（空載），32767rpm/S（負載 參考：100mm直徑標準晶圓片）；

7.工藝時間：每步可以設定45小時29分鐘10秒，精度0.1秒；

8. PLC控制：4.3寸全彩觸摸屏PLC可編程的控制器；

9.程序段：可存儲99個程序段，每個程序段可設置50個不同步驟的速度狀態(tài)；

10.無油真空泵：220V/50Hz；真空吸附范圍25-28 英寸汞柱 (~635-711毫米汞柱)可調(diào)節(jié)；

11.擴展功能： 可升級預留端口，可擴展自動滴膠裝置、自動去邊裝置、手動去邊等選配項。

三、設備性能特點：

馬達控制：無刷直流雙向旋轉(zhuǎn)；

智能程控：控制器可拆卸，4.3寸全彩觸屏，配有智能觸碰筆，按鍵有提示音，選中有顏色區(qū)分，適用于手套箱；

腔體材質(zhì)：易清潔的NPP天然聚丙烯材質(zhì)，抗腐蝕性；

模式切換：可自由切換單步模式、多步模式和曲線分析圖；

水平調(diào)節(jié)：設備墊腳可調(diào)節(jié)水平；

防止堵膠：雙真空腔設計；

預留端口：可升級擴展其他多種選配項；

密碼功能：設有開機密碼和管理員密碼，管理員有權(quán)限修改核心參數(shù)；

安全報警：系統(tǒng)蓋板嵌鎖、真空異常、通氣異常、系統(tǒng)進膠、馬達轉(zhuǎn)速異常均會報警，通過聲音和界面對話框提示；

氣流保護：旋涂過程中對馬達進行氣流保護（也可選擇取消），易維護，易清潔，大幅提高馬達使用壽命；

四、應用領(lǐng)域：

• 半導體芯片制造
• 鈣鈦礦太陽能電池制備
• 微納和微流控
• 納米薄膜
• 高分子材料
• 有機光伏
• 有機發(fā)光二極管
• 有機場效應晶體管&薄膜晶體管
• 石墨烯&二維材料

主營產(chǎn)品：

Laurell勻膠機    

Harrick等離子清洗機

Thetametrisis膜厚儀 

Microxact探針臺

ALD原子層沉積系統(tǒng)

TRION反應離子刻蝕機

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻機      

Novascan紫外臭氧清洗機

Nilt納米壓印機

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

Annealsys高溫退火爐

Kinematic程序剪切儀

Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)    

Wabash/Carver自動壓片機