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等離子蝕刻機又稱等離子蝕刻機、等離子平面蝕刻機、等離子蝕刻機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子蝕刻是干蝕刻最常見的形式。原理是暴露在電子區(qū)的氣體形成等離子體。由此產生的電離氣體和釋放出的高能電子組成的氣體形成等離子體或離子。 , 當電離的氣體原子被電場加速時，它們會釋放出足夠的力以將材料與表面排斥力緊密結合或蝕刻表面。在某種程度上，等離子清洗本質上是等離子蝕刻的溫和情況。干蝕刻工藝的設備包括反應室、電源和真空部分。工件被送入由真空泵抽真空的反應室。氣體被引入并與等離子體交換。等離子體在工件表面發(fā)生反應，反應產生的揮發(fā)性副產物被真空泵抽走。等離子體蝕刻工藝實際上是一種反應等離子體工藝。最近的發(fā)展是在反應室內安裝擱板形式。這種設計是靈活的。用戶可以卸下擱板來配置合適的等離子蝕刻方法：反應等離子（RIE）、下游等離子體（downstream）、直接等離子（direction Plasma）。
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