
兆 聲 清 洗 系 統(tǒng)
單晶圓兆聲清洗機
Single wafer megatonic cleaning machine

YMMS-MSC600
兆聲波清洗是利用換能器發(fā)出兆赫級高能聲波, 溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動,以強的聲壓梯度及聲流作用產(chǎn)生的高速流體力學(xué)層連續(xù)沖擊,使吸附的微細顆粒解吸的清洗技術(shù)。
兆聲清洗特點
兆聲波清洗不會產(chǎn)生強烈的空化效應(yīng),可以避免在清洗過程中造成對清洗對象表面的損傷與污染物殘留。兆聲波清洗效率高、時間短,使用清洗劑濃度低,化學(xué)試劑的消耗量少,因此對環(huán)境的危害水平較低。
設(shè)備特性
◆ 儀器型兆聲清洗設(shè)備
◆ 石英噴頭:兆聲噴頭角度可調(diào)整(可選配多種流量型號)
◆ 兆聲清洗設(shè)備,采用兆聲清洗噴頭技術(shù),可提供納米級濕法清洗
◆ “干進干出" 一步工藝以的投資和購置成本來實現(xiàn)
◆ 無損兆聲清洗,試劑,PVA刷洗
◆ N2甩干,轉(zhuǎn)速可設(shè)置
◆ 全彩觸摸屏控制及友好的人機交互界面
◆ 工藝順序自由搭配建立清洗菜單,多段速設(shè)置
◆ 內(nèi)置頂式FFU凈化系統(tǒng)
◆ 進口高精密流量控制閥門數(shù)值擬定
◆ 獨立液體排放單元可以和廠務(wù)接口對接
◆ 多種工藝配方儲存
◆ 漏液檢測報警裝置
◆ 應(yīng)急DI固定臂
◆ 設(shè)備骨架不銹鋼外包NPP材質(zhì)


兆 聲 清 洗 系 統(tǒng)
單晶圓兆聲清洗機
Single wafer megatonic cleaning machine

YMMS-MSC600
兆聲波清洗是利用換能器發(fā)出兆赫級高能聲波, 溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動,以強的聲壓梯度及聲流作用產(chǎn)生的高速流體力學(xué)層連續(xù)沖擊,使吸附的微細顆粒解吸的清洗技術(shù)。
兆聲清洗特點
兆聲波清洗不會產(chǎn)生強烈的空化效應(yīng),可以避免在清洗過程中造成對清洗對象表面的損傷與污染物殘留。兆聲波清洗效率高、時間短,使用清洗劑濃度低,化學(xué)試劑的消耗量少,因此對環(huán)境的危害水平較低。
設(shè)備特性
◆ 儀器型兆聲清洗設(shè)備
◆ 石英噴頭:兆聲噴頭角度可調(diào)整(可選配多種流量型號)
◆ 兆聲清洗設(shè)備,采用兆聲清洗噴頭技術(shù),可提供納米級濕法清洗
◆ “干進干出" 一步工藝以的投資和購置成本來實現(xiàn)
◆ 無損兆聲清洗,試劑,PVA刷洗
◆ N2甩干,轉(zhuǎn)速可設(shè)置
◆ 全彩觸摸屏控制及友好的人機交互界面
◆ 工藝順序自由搭配建立清洗菜單,多段速設(shè)置
◆ 內(nèi)置頂式FFU凈化系統(tǒng)
◆ 進口高精密流量控制閥門數(shù)值擬定
◆ 獨立液體排放單元可以和廠務(wù)接口對接
◆ 多種工藝配方儲存
◆ 漏液檢測報警裝置
◆ 應(yīng)急DI固定臂
◆ 設(shè)備骨架不銹鋼外包NPP材質(zhì)
