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當(dāng)前位置:青島佳鼎分析儀器有限公司>>光刻機>> ASML 二手翻新 DUV光刻機TWINSCAN NXT:2000i
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更新時間:2023-02-25 14:18:59瀏覽次數(shù):220次
聯(lián)系我時,請告知來自 化工機械設(shè)備網(wǎng)二手現(xiàn)貨ASML ARF光刻機 XT:1700Fi
二手現(xiàn)貨Nikon ARF光刻機NSR-S220D
二手尼康Nikon 14年產(chǎn) ARF浸入式光刻機 NSR-S630D
TWINSCAN NXT:2000i 為高級邏輯和 DRAM 節(jié)點的大批量制造提供出色的覆蓋、聚焦控制和交叉匹配。
TWINSCAN NXT:2000i 是一種高生產(chǎn)率的雙級浸沒式光刻工具,專為在*節(jié)點批量生產(chǎn) 300 毫米晶圓而設(shè)計。
該系統(tǒng)配備了直列式折反射透鏡設(shè)計,數(shù)值孔徑 (NA) 為 1.35,是業(yè)內(nèi)的。
該系統(tǒng)還包括用于改進(jìn)疊加、焦點控制和交叉匹配的硬件創(chuàng)新。
專為與 EUV 混合搭配使用而設(shè)計,其模塊化設(shè)計允許從前幾代升級,并在未來繼續(xù)升級。
TWINSCAN NXT:2000i 擁有高生產(chǎn)率和低缺陷率。該系統(tǒng)的生產(chǎn)力目前為每天 4,600 片晶圓,這一成就是通過提供可選應(yīng)用程序來實現(xiàn)的,這些應(yīng)用程序允許系統(tǒng)優(yōu)化掃描儀晶圓處理時間并減少特定用例的批量開銷。
該系統(tǒng)顯示出有史以來的成熟度,在短短 2 個月內(nèi)就達(dá)到了 150 小時的可靠性(上一代為 6 個月)。
TWINSCAN NXT:2000i 包括一個 1.35 NA 193 nm 折反射投影鏡頭,可實現(xiàn)低至 40 nm(C-quad)和 38 nm(偶極子)的生產(chǎn)分辨率,以及支持全 26 x 33 mm 視場大小、4X減少和與現(xiàn)有設(shè)計的標(biāo)線兼容性。
FlexRay Prepared Illuminator 擴展了傳統(tǒng)和離軸照明的范圍,以實現(xiàn)用于低 k1 成像的高級瞳孔整形。
NXT:2000i 可以實現(xiàn) 2.5 nm 交叉匹配的產(chǎn)品覆蓋。新的 ORION 對準(zhǔn)傳感器提供更準(zhǔn)確的對準(zhǔn)測量和增強的工藝穩(wěn)健性,以獲得更好的覆蓋性能。
此外,新的紫外線水平傳感器標(biāo)記 2 (UVLS-2) 提供更準(zhǔn)確的水平測量,從而提高成像性能。
最后,對晶圓臺平面度、耐久性和夾持機制的改進(jìn)增強了系統(tǒng)與 EUV 的匹配。
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