ASML二手翻新現(xiàn)貨DUV光刻機XT:1060K，采用248nmKRF曝光光源，分辨率80nm，產(chǎn)能205wph。

主要特點和優(yōu)勢

TWINSCAN XT:1060K 248 nm 步進掃描系統(tǒng)是一款雙階段光刻工具，具有業(yè)內(nèi)的 NA 和生產(chǎn)率，專為 300 mm 晶圓生產(chǎn)而設(shè)計。擴展關(guān)鍵KrF技術(shù)可降低我們客戶的每層成本，同時讓他們受益于成熟的 KrF 處理。

XT:1060K 是 2X nm 技術(shù)節(jié)點及以上技術(shù)節(jié)點的金屬、通孔和注入層的理想選擇，適用于內(nèi)存和邏輯應(yīng)用。

此外，我們還為其他 TWINSCAN KrF 系統(tǒng)提供成像匹配，并為 TWINSCAN ArF 和 KrF 系統(tǒng)提供出色的疊加匹配，從而實現(xiàn)在大批量制造環(huán)境中的無縫集成。

01. 生產(chǎn)力

具有可變頻率控制的高線窄 40 W KrF 激光器與光學系統(tǒng)的高光傳輸相結(jié)合，以盡可能低的運營成本提供每小時 ≥ 205 300 mm 晶圓的生產(chǎn)吞吐量。

02. 光學

具有*鏡頭操縱器的在線折反射鏡頭設(shè)計支持完整的 26 x 33 mm 視場、4X 縮小和與現(xiàn)有折射設(shè)計的標線兼容性。AERIAL-E 照明器可通過擴展變焦實現(xiàn)連續(xù)可變的常規(guī)和離軸照明，從而保持高吞吐量。

03. 成像性能

XT:1060K 配備了的覆蓋改進，允許客戶實現(xiàn) ≤ 3.5 nm（全晶圓）的專用卡盤覆蓋和 ≤ 5 nm（全晶圓）的匹配機器覆蓋。

其 LithoGuide ILIAS 允許極其準確的系統(tǒng)設(shè)置和復雜的成像參數(shù)監(jiān)控。