ASML二手現(xiàn)貨DUV光刻機(jī)XT:860M，采用248nmKRF光源，分辨率110nm，產(chǎn)能240wph。

主要特點和優(yōu)勢

TWINSCAN XT:860M 步進(jìn)掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級 KrF 光刻機(jī)，設(shè)計用于批量生產(chǎn)分辨率低于 110 納米的 300 毫米晶圓。

通過將可變 0.55 –0.80 NA Carl Zeiss Starlith 860+ 4X 縮小鏡頭的成像能力與 AERIAL II 和可選的 QUASAR XL 照明技術(shù)相結(jié)合，XT:860M 將當(dāng)今經(jīng)過體積驗證的 KrF 技術(shù)擴(kuò)展到 110 nm 應(yīng)用。

01. 生產(chǎn)力

在該系統(tǒng)中，具有可變頻率控制的高線窄 40 W KrF 激光器與光學(xué)系統(tǒng)的高光傳輸相結(jié)合，以較低的運營成本提供每小時 240 300 毫米晶圓的生產(chǎn)吞吐量。

AERIAL II 照明器還可以通過變焦光學(xué)器件實現(xiàn)連續(xù)可變的常規(guī)和離軸照明，并且系統(tǒng)的高速雙級技術(shù)有助于在廣泛的抗蝕劑靈敏度范圍內(nèi)保持這些高通量水平。

02. 光學(xué)

TWINSCAN XT:860M 步進(jìn)掃描系統(tǒng)包括一個可變的 0.80 NA 248 nm 860+ 投影鏡頭，可實現(xiàn)非常低的像差水平，以實現(xiàn)緊湊的焦平面和出色的失真控制，環(huán)形失真≤ 10 nm。

03. 成像性能

TWINSCAN XT:860M 步進(jìn)掃描系統(tǒng)可實現(xiàn)≤12 nm 單機(jī)（專用卡盤）全晶圓覆蓋覆蓋，以及≤14 nm 匹配機(jī)（至參考晶圓）全晶圓覆蓋覆蓋. 該系統(tǒng)的 LithoGuide ILIAS 傳感器允許客戶更準(zhǔn)確地設(shè)置系統(tǒng)并監(jiān)控其成像參數(shù)。