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HVPE-水平

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更新時(shí)間:2023-02-25 08:11:38瀏覽次數(shù):49次

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產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:水平HVPE設(shè)備用于在藍(lán)寶石、碳化硅等襯底上外延生長(zhǎng)GaN薄膜、Ga2O3薄膜(導(dǎo)模法)、厚膜及晶體生長(zhǎng),及AlN等外延生長(zhǎng)
  • 產(chǎn)品信息
    簡(jiǎn)介:
     
    水平HVPE設(shè)備用于在藍(lán)寶石、碳化硅等襯底上外延生長(zhǎng)GaN薄膜、Ga2O3薄膜(導(dǎo)模法)、厚膜及晶體生長(zhǎng),及AlN等外延生長(zhǎng)。
     
    產(chǎn)品性能:
     
    ◆工作溫度:200~1200℃/2200℃
     
    ◆結(jié)構(gòu)方式:水平/垂直,片數(shù):1/3/6/多片(科研/生產(chǎn)型)
     
    ◆多溫區(qū),動(dòng)態(tài)高精度生長(zhǎng)條件控制
     
    ◆低壓、常壓、微正壓工藝方式,襯底片升降、旋轉(zhuǎn)(厚膜/晶體生長(zhǎng))

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