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大多數(shù)金屬可用酸作為腐蝕液。對于某些不溶于一般氧化性酸的金屬，需用氧化性酸與配合劑組成的混合液。例如，在常溫下相當穩(wěn)定的金屬鈦， 與硝酸-清氟酸的反應可表達如下：Ti+4HNO3+6HF    H2[TiF6]+4NO2+4H2O

    對于具有兩性的金屬，如鋁、鉻等，也可用堿作腐蝕液。制作印刷電路 時，腐蝕帶有銅箔的絕緣板所用的氧化劑是三氯化鐵，它與銅的反應可表達 如下：

    Cu+2FeCl3   CuCl2+2FeCl2

化學蝕刻    這是將金屬表面按規(guī)定的部位用腐蝕液使之溶解，而在工 件上留下凹槽或孔洞的一種加工方法。

    為了成批生產(chǎn)，這類加工工藝是采用光刻法進行的。待加工金屬工件被涂覆一層具有抗蝕能力的保護層，這種保護材料稱為光致抗蝕劑①，在其上方 放置一按需要繪制的圖版(俗稱掩膜底版)進行曝光。由于圖版中有透明部分 和不透明部分(即墨線處)，曝光后在抗蝕劑膜上留下了相對應的曝光部分和 未曝光部分。由于曝光后這種已經(jīng)過抗蝕劑的涂覆使金屬表面對溶劑的溶解 能力發(fā)生了變化，在用溶劑處理以后，金屬表面會留下不溶性的保護膜，它 具有抗蝕作用而保護金屬免受腐蝕，而未經(jīng)保護的金屬表面在腐蝕液的作用 下則留下了所需的凹槽。蕞后去除抗蝕劑膜即為所需成品。