化工機(jī)械設(shè)備網(wǎng)
詳細(xì)介紹
使用平面磁控濺射陰極進(jìn)行反應(yīng)性濺射時(shí)的"靶中毒"和"陽(yáng)極消失", 這兩問(wèn)題一直是玻璃鍍膜行業(yè)的難題.
某國(guó)內(nèi)玻璃制造商采用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP380 離子清洗技術(shù)清除沉積在靶面和陽(yáng)極表面的反應(yīng)產(chǎn)物, 如氧化物, 從而保持靶和陽(yáng)極表面導(dǎo)電性, 避免發(fā)生"靶中毒"和"陽(yáng)極消失"現(xiàn)象.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù)：
射頻離子源型號(hào) | RFICP 380 |
Discharge 陽(yáng)極 | 射頻 RFICP |
離子束流 | >1500 mA |
離子動(dòng)能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 30 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長(zhǎng)度 | 39 cm |
直徑 | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |
推薦理由：
1. 使用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP 380 可以準(zhǔn)確、靈活地對(duì)樣品選定的區(qū)域進(jìn)行清洗
2. 功率大, 離子束流高, 滿足客戶工藝要求
3. 清洗速率快
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工作原理:
在真空室充入 100sccm 的氬氣, 利用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP380 把氬氣電離, 形成離子體, 利用氬離子撞擊靶面, 從靶面上撞出錫原子或氧化錫分子, 完成對(duì)錫靶的清潔. 撞擊出來(lái)的錫原子撞擊陽(yáng)極表面, 清除吸附陽(yáng)極表面與表層銦結(jié)合力不強(qiáng)的部分氧化錫分子, 完成對(duì)陽(yáng)極表面的清洗.
其清洗實(shí)施工作圖如下:
一次清洗大約用時(shí)15s, 前5秒主要清潔靶面, 后10秒清潔陽(yáng)極表面.
運(yùn)行結(jié)果：
有效的清潔陰極靶面和陽(yáng)極表面, 保持陰極靶面和陽(yáng)極表面良好的導(dǎo)電性, 避免發(fā)生"靶中毒"和"陽(yáng)極消失"現(xiàn)象
伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口品牌的代理商.
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上海伯東: 羅先生
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