化工機(jī)械設(shè)備網(wǎng)
詳細(xì)介紹
| 原理： |
| 利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。工業(yè)廢氣利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)工業(yè)廢氣進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使工業(yè)廢氣物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。利用高能UV光束裂解工業(yè)廢氣中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，*達(dá)到凈化及殺滅細(xì)菌的目的。 |
UV光催化氧化設(shè)備的特點(diǎn)
1、UV光催化設(shè)備能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物、硫化氫、氨氣等無(wú)機(jī)物類(lèi)污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)99%以上，脫臭效果大大優(yōu)于頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)。
2、UV光催化氧化設(shè)備可適應(yīng)于絕大部分高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，通過(guò)合理的模塊配置可廣泛應(yīng)用于：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾中轉(zhuǎn)站、污水泵房、*空調(diào)等惡臭氣體的脫臭滅菌凈化處理?？擅刻?4小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
3、UV光催化設(shè)備無(wú)任何機(jī)械裝置，無(wú)運(yùn)動(dòng)噪音，無(wú)需專(zhuān)人管理和日常維護(hù)，只需要作定期檢查維護(hù)，維護(hù)和能耗成本低，風(fēng)阻極低，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗，達(dá)到節(jié)能的目的。
4、UV光催化設(shè)備采用光解原理，采取了隔爆處理，消除了安全隱患、防火、防爆、防腐蝕性能高，設(shè)備性能安全穩(wěn)定，特別適用于高濃度易燃易爆廢氣的場(chǎng)合。
5、UV光催化設(shè)備無(wú)需惡臭氣體進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在-30度~95度之間，濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作，無(wú)需添加其他物質(zhì)及藥劑參與處理。
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