詳細介紹
相比于平面環(huán)拋,雙面研磨拋光技術(shù)在平行度要求較高,長寬比較大或薄元件冷加工方面具有優(yōu)勢。而且它克服了民用雙面拋光機加工完成的平面精度較低,加工元件的尺寸范圍小,擴展性能差等缺點,能夠很好地滿足現(xiàn)代光學的要求。
上海中晶企業(yè)發(fā)展有限公司研發(fā)的這款DM光學雙面拋光機在主要性能上采用橋架系統(tǒng),擁有高精度主盤和上盤,上盤具有偏心設(shè)置和擺動功能,主盤外圍設(shè)置刮盤刷。該設(shè)備具備磨料循環(huán)系統(tǒng),設(shè)計了合理的分離器。此外,設(shè)備采用觸摸式人機界面進行操作,PLC系統(tǒng)對驅(qū)動部件進行閉環(huán)精密控制,提高了設(shè)備的自動化程度。
在系統(tǒng)特性方面。發(fā)熱量小,降低了設(shè)備散發(fā)熱量對車間環(huán)境溫度的影響。整體結(jié)構(gòu)合理緊湊,部件設(shè)計簡練實用,減少了占地面積。在安全性、維護性和操作性上也表現(xiàn)可嘉。
zui主要的是,企業(yè)擁有成熟的大口徑平面元件拋光的全套工藝,能夠提供系統(tǒng)解決方案。
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