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金屬真空鍍膜設備(圖)多套不同工藝解決方案

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更新時間:2015-09-14 05:36:18瀏覽次數:182次

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產品簡介

多弧離子鍍膜設備是一種高效、無污染的離子鍍膜設備,具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優(yōu)點。

詳細介紹

 

金屬真鍍膜設備(多弧離子鍍膜設備)
 
多弧離子鍍膜設備是一種高效、無污染的離子鍍膜設備,具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優(yōu)點。
    真空電弧離子鍍膜的原理是基于冷陰極自持弧光放電等離子體蒸發(fā)、電離鍍料,結合脈沖偏壓技術,提高沉積粒子能量和活性,增強膜層的各項性能。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面上進行鍍膜;可以鍍金屬膜,氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜,還可以鍍氮化鈦摻金膜等。電弧離子鍍膜廣泛應用于工具、模具的超硬涂層,汽車輪轂、高爾夫球具、鐘表、酒店用品、衛(wèi)浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾涂層等領域。
 
匯成公司著力改進圓形電弧蒸發(fā)源,同時著力開發(fā)高性能矩形平面電弧蒸發(fā)源,均已裝配新機。
     匯成公司可根據用戶要求設計各種規(guī)格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統(tǒng)也可根據用戶要求進行設計配置。
     詳情請致電我司 李國棟 http://www.suichenggd.cn

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