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SemiPOL高精密定量研磨機(jī)

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產(chǎn)品簡介

?SemiPOL能夠?qū)Ω鞣N材料(光學(xué)鏡片、半導(dǎo)體晶片、金屬非金屬晶相)進(jìn)行精確的研磨拋光，從而進(jìn)行顯微鏡(SEM、FIB、TEM等)分析。

詳細(xì)介紹

SemiPOL 高精密定量研磨機(jī)

SemiPOL能夠?qū)Ω鞣N材料(光學(xué)鏡片、半導(dǎo)體晶片、金屬非金屬晶相)進(jìn)行精確的研磨拋光，從而進(jìn)行顯微鏡(SEM、FIB、TEM等)分析。目標(biāo)精度微米級。主要作平行研磨拋光，結(jié)合更多附件，使復(fù)雜異形件及面的研磨拋光更容易。實(shí)時(shí)監(jiān)控材料去除量，或量化設(shè)定材料磨屑量并實(shí)現(xiàn)無人值守操作。雙步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動，分別控制研磨座擺動速度和幅度提高研磨件平面度、光整度及研磨耗材利用率。

產(chǎn)品特點(diǎn)

（1）研磨盤尺寸：8英寸(Φ203mm)；

（2）研磨盤轉(zhuǎn)速：0–600rpm，可正轉(zhuǎn)/反轉(zhuǎn)；

（3）液晶屏實(shí)時(shí)顯示材料去除量，分辨率1um，穩(wěn)定精度10um；

（4）可設(shè)定材料磨削量，分辨率1um，穩(wěn)定精度10um，磨屑量到達(dá)設(shè)定值，設(shè)備自動停止運(yùn)行；

（5）可設(shè)定研磨時(shí)間，研磨時(shí)間到達(dá)設(shè)定值，設(shè)備自動停止運(yùn)行；

（6）7英寸液晶顯示/觸摸屏，可保存/編輯至少20組參數(shù)；

（7）樣品可自轉(zhuǎn)，可不轉(zhuǎn)，可往復(fù)擺動，擺動幅度可調(diào)；

（8）自動/手動控制冷卻水通斷；

（9）主軸電機(jī)功率750W，采用伺服電機(jī)，大扭矩、恒扭矩輸出；樣品擺動采用步進(jìn)電機(jī)，扭矩更大更耐用；

技術(shù)參數(shù)

型號	SemiPOL
工作盤	直徑	8英寸
	轉(zhuǎn)速	0-600rpm，無極調(diào)速
	轉(zhuǎn)向	CW/CCW
	功率	750W
	出廠校驗(yàn)	平面度<2um
樣品夾持頭	轉(zhuǎn)速	0-50rpm，無極調(diào)速
	轉(zhuǎn)向	CW/CCW
	半幅旋轉(zhuǎn)	有，幅度可調(diào)
	擺動	有，幅度、快慢可調(diào)
	出廠校驗(yàn)	與盤垂直度<2um;與平行度<2um
	去除量	20mm
電氣	電源	220VAC
面板	7英寸觸摸屏
尺寸	WxDxH	700x430x580mm
重量	57kg

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